러시아 MIET(Institute of Electronic Technology) 기술 대학은 무역 산업부의 보조를 받아 X레이/ 싱크로트론이나 플라즈마 소스를 사용해, 마스크가 필요 없는 리소그래피 기계를 개발합니다. 이걸로 28nm나 16nm, 혹은 그보다 작은 공정을 처리할 수 있기를 바라고 있습니다. 

 

마스크를 쓰지 않는 리소그래피 기술은 지금까지 실용화된 적이 없습니다. 마스크를 쓰는 쪽이 더 효율적이니 그러겠죠? 그리고 이제 개발을 시작하면 앞으로도 5년 이상은 기다려야 합니다.