ASML이 1nm 공정의 EUV 노광기 설계를 마쳤다는 소식입니다.
삼성의 7nm와 5nm 제조에는 NA=0.33의 EUV 노광기를 사용하고, 2nm 이후부터는 해상력이 더 높아져야 하니 NA=0.55 짜리를 사용합니다.
ASML은 0.55NA짜리 노광기, NXE:5000 시리즈의 기본 설계를 마쳤으며, 2022년에 상용화에 들어갈 거라고 합니다.
ASML이 1nm 공정의 EUV 노광기 설계를 마쳤다는 소식입니다.
삼성의 7nm와 5nm 제조에는 NA=0.33의 EUV 노광기를 사용하고, 2nm 이후부터는 해상력이 더 높아져야 하니 NA=0.55 짜리를 사용합니다.
ASML은 0.55NA짜리 노광기, NXE:5000 시리즈의 기본 설계를 마쳤으며, 2022년에 상용화에 들어갈 거라고 합니다.
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